伴隨著產(chǎn)品可靠性、加工工藝精密化、產(chǎn)品微型化以及產(chǎn)品高純度等要求而不斷地發(fā)展的，可以看出無(wú)論是在陀螺儀制造過(guò)程中最開始的空氣凈化技術(shù)應(yīng)用，還是在戰(zhàn)爭(zhēng)中發(fā)現(xiàn)電子儀器失靈原因是灰塵作怪，空氣凈化為滿足更高環(huán)境需求中不斷發(fā)展，應(yīng)用領(lǐng)域不斷延伸。

　　國(guó)際上空氣凈化技術(shù)應(yīng)用經(jīng)歷了以下階段：

　　20世紀(jì)20年代，美國(guó)航空業(yè)的陀螺儀制造過(guò)程中最先提出了生產(chǎn)環(huán)境凈化要求，在制造車間、實(shí)驗(yàn)室建立了“控制裝配區(qū)”，供給一定量過(guò)濾后的空氣。在朝鮮戰(zhàn)爭(zhēng)中，美國(guó)找到了電子儀器出故障主要原因是灰塵作怪，從而促成了空氣凈化的起步。

　　1957年，前蘇聯(lián)第一顆人造衛(wèi)星升空，刺激美國(guó)加速發(fā)展宇航事業(yè)，制定了阿波羅號(hào)登月計(jì)劃，其電子控制儀器和精密機(jī)械加工環(huán)境均要求凈化，因而促進(jìn)了凈化技術(shù)大發(fā)展，建造了百級(jí)潔凈室，誕生了第一個(gè)潔凈室標(biāo)準(zhǔn)。

　　1970年，lk位的集成電路開始大規(guī)模生產(chǎn)，使?jié)崈艏夹g(shù)發(fā)展突飛猛進(jìn)。20世紀(jì)80年代，大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)，使空氣潔凈技術(shù)有了進(jìn)一步的發(fā)展，集成電路的最細(xì)光刻線寬達(dá)到2~3pr^在70年代末和80年代初，美國(guó)、日本研制出0.1pm級(jí)髙效空氣過(guò)濾器，為潔凈度的提高創(chuàng)造了條件。

　　在20世紀(jì)90年代，超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)有了新的進(jìn)展，最細(xì)光刻線寬由80年代的微米級(jí)發(fā)展到亞微米級(jí)。到20世紀(jì)末，要求達(dá)到0.1?0.2MJT1,集成度達(dá)到lkM。集成電路的集成度越高，要求的光刻線寬就越小，則要求控制的塵粒粒徑就越小，塵粒數(shù)童也越少。如今，要求0.1pLmlO級(jí)的潔凈度已經(jīng)很普遍，將來(lái)要求的潔凈度會(huì)更高，潔凈室的應(yīng)用領(lǐng)域會(huì)更加寬廣。

　　電子產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，將推動(dòng)我國(guó)潔凈技術(shù)向高水平發(fā)展，而醫(yī)學(xué)與藥物的快速發(fā)展，必將使?jié)崈艏夹g(shù)應(yīng)用更加廣泛。我國(guó)在制藥行業(yè)實(shí)施GMP(GoodManufacturingPractice)認(rèn)證制度以來(lái)，生物潔凈室的興建像雨后春筍，給潔凈技術(shù)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)空前的繁榮。

　　在21世紀(jì)，生物工程對(duì)人類的直接影響將超過(guò)芯片，而其發(fā)展離不開空氣潔凈。如生物工程中有相當(dāng)一部分操作存在潛在危險(xiǎn)性，特別是存在可能具有未知毒性的微生物新種傳播生物學(xué)危險(xiǎn)。這就需要提供具有生物安全的建筑微環(huán)境，可利用空氣潔凈技術(shù)、生物安全知識(shí)來(lái)建造生物安全潔凈室(實(shí)驗(yàn)室)來(lái)控制這種具有生物學(xué)危險(xiǎn)的污染的傳播。

　　采用生物學(xué)工藝制成生物活性制劑，即生物藥品，其生產(chǎn)過(guò)程需保持無(wú)菌，并且最終不能滅菌。因此，生產(chǎn)過(guò)程應(yīng)實(shí)行微環(huán)境無(wú)菌控制，有很大一部分還需要實(shí)行生物安全，這種控制過(guò)程都需要應(yīng)用凈化技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

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